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日本shinkuu臺式真空蒸鍍裝置VE-2013介紹

  • 發布日期:2022-03-29      瀏覽次數:993
    • 日本shinkuu臺式真空蒸鍍裝置VE-2013介紹

       

      VE-2013是繼承了VE-2030(本公司生產)概念的簡易真空蒸鍍裝置。帶有內置 TMP 的緊湊型外殼。由于是臺式機,所以不占空間。RP 放在地板上。
      我們提供具有小型 TMP + RP 排氣系統且價格低廉的清潔、高真空氣相沉積設備。它是一種全自動控制,消除了復雜的排氣操作,只需打開/關閉觸摸面板開關。
      金、鋁、鉻、銀等可以使用鎢籃進行沉積。碳氣相沉積使用使用碳 SLC-30 )蒸發的夾式氣相沉積槍類型。(不能使用Φ5mm碳棒。)

       

      碳蒸鍍電極

      碳蒸鍍電極。
      它可以在高真空區域進行碳氣相沉積,并且可以形成具有優異膜質量和強度的碳膜。
      附帶的防污罩可限度地減少碳蒸氣沉積的散射范圍,并減輕清潔負擔。
      碳(SLC-30)用作碳氣相沉積源。

      金屬蒸鍍電極

      φ0.5mm 這是鎢籃的金屬蒸鍍電極。
      可以輕松輕松地沉積金、鋁、鉻等。附帶的防污罩可限度地減少氣相沉積范圍并減輕清潔負擔。

       

        
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