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日本arios小型濺射系統(tǒng) SS-DC?RF301 離子濺射儀
日本arios小型濺射系統(tǒng) SS-DC?RF301 這是一種使用濺射（通常縮寫(xiě)為濺射）的薄膜沉積裝置。 濺射成膜的特點(diǎn)是飛入基板的顆粒具有相對(duì)較大的能量，因此可以產(chǎn)生具有高附著力的強(qiáng)膜。
更新日期：2024-03-24 訪(fǎng)問(wèn)量：925
日本shinkuu超小型噴金儀MSP-mini 該設(shè)備是帶有磁控管靶材的金屬鍍膜設(shè)備。用光學(xué)顯微鏡觀(guān)察透明材料的表面（Ag 靶材）或用電子顯微鏡（Au/Ag 靶材）將導(dǎo)電膜應(yīng)用于少量樣品時(shí)使
更新日期：2024-03-24 訪(fǎng)問(wèn)量：1259
日本shinkuu 小型噴金儀MSP-1S 該設(shè)備專(zhuān)用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀(guān)察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。
更新日期：2024-03-24 訪(fǎng)問(wèn)量：1834
日本attmol嵌入式微型泵OEM模塊TS-MP系列 數(shù)顯計(jì)量泵
日本attmol嵌入式微型泵OEM模塊TS-MP系列 TS-MP系列“微型泵”O(jiān)EM模塊（用于設(shè)備嵌入）是一種緊湊的高精度柱塞泵，可以處理“計(jì)量”和“連續(xù)液體進(jìn)料”。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：887
日本attmol高壓惰性精密泵MIFP系列 數(shù)顯計(jì)量泵
日本attmol高壓惰性精密泵MIFP系列 MIFP系列“高壓惰性精密泵”是一種精密泵，全非金屬（金屬惰性）規(guī)格下實(shí)現(xiàn)了未有的“高壓”和“高流量”性能。 還提供“小流量”規(guī)格。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：1147
日本tsukasa便攜式管泵 PP-DP1-200，100V 數(shù)顯計(jì)量泵
日本tsukasa便攜式管泵 PP-DP1-200，100V 具有增強(qiáng)控制功能和滴水控制功能的小型機(jī)身
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：887
日本iwaki磁懸浮泵MJ-100 數(shù)顯計(jì)量泵
日本iwaki磁懸浮泵MJ-100 這是一種結(jié)合了磁浮軸承結(jié)構(gòu)和磁力驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的離心泵。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：1175
日本shinkuu 四英寸貴金屬涂布機(jī)MSP-20MT 離子濺射儀
日本shinkuu 四英寸貴金屬涂布機(jī)MSP-20MT 4英寸貴金屬涂布機(jī)，具有全自動(dòng)功能！！ 它可以處理大樣品和大量樣品。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：1206
日本shinkuu貴金屬涂布機(jī)MSP-20UM 離子濺射儀
日本shinkuu貴金屬涂布機(jī)MSP-20UM 以支持各種應(yīng)用。 此外，可以根據(jù)條件設(shè)置自動(dòng)執(zhí)行一系列涂層操作。 旁路排氣系統(tǒng)可最大限度地減少雜質(zhì)和聯(lián)鎖以防止錯(cuò)誤操作，并且傾斜旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)可作為單獨(dú)的選項(xiàng)提供，以提高環(huán)繞性能。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：952
日本shinkuu磁控濺射設(shè)備介紹 磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強(qiáng)磁鐵促進(jìn)陰極表面層電離的原理，然后用磁場(chǎng)用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。 在電子顯微鏡應(yīng)用中，主要使用金和鉑等貴金屬。 我們還有一系列型號(hào)，可以濺射其他金屬靶材。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：1296
日本shinkuu 小型金屬鍍膜裝置MSP-1S 離子濺射儀
日本shinkuu 小型金屬鍍膜裝置MSP-1S 該設(shè)備專(zhuān)用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀(guān)察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：909
日本shinkuu一鍵自動(dòng)涂布設(shè)備MSP-mini 離子濺射儀
日本shinkuu一鍵自動(dòng)涂布設(shè)備MSP-mini 該設(shè)備是帶有磁控管靶材的金屬鍍膜設(shè)備。用光學(xué)顯微鏡觀(guān)察透明材料的表面（Ag 靶材）或用電子顯微鏡（Au/Ag 靶材）將導(dǎo)電膜應(yīng)用于少量樣品時(shí)使
更新日期：2024-03-23 訪(fǎng)問(wèn)量：1007
日本shinkuu鋨涂層設(shè)備HPC-1SW 該裝置是用于電子顯微鏡觀(guān)察的鋨涂層裝置。使用空心陰極樣品架，并通過(guò)低壓放電進(jìn)行涂層，因此幾乎沒(méi)有樣品損壞。
更新日期：2024-03-21 訪(fǎng)問(wèn)量：1149
HPC-20日本shinkuu SEM 和 TEM 的鋨涂層設(shè)備
日本shinkuu SEM 和 TEM 的鋨涂層設(shè)備HPC-20 該裝置是用于電子顯微鏡觀(guān)察的鋨涂層裝置。配備觸摸屏和序列器控制，任何人都可以輕松、全自動(dòng)地處理樣品的導(dǎo)電膜形成。
更新日期：2024-03-21 訪(fǎng)問(wèn)量：1478
日本shinkuu φ300mm Pt 鍍膜機(jī)MSP-12in
日本shinkuu φ300mm Pt 鍍膜機(jī)MSP-12in 配備兼容 12 英寸晶圓的大面積樣品臺(tái)。使用磁控管方法，當(dāng)涂層電壓為 500V 或更低時(shí)，可減少離子損傷。
更新日期：2024-03-21 訪(fǎng)問(wèn)量：1193
