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更新日期:2024-03-20
簡(jiǎn)要描述:
日本maruto臺(tái)式研磨機(jī)Mini Lapotester GP2 型即使是小型臺(tái)式機(jī),也能根據(jù)研究目的在各種條件下進(jìn)行研磨研磨的研磨機(jī)。
電源電壓 | 其他 | 空載轉(zhuǎn)速 | 1 |
---|---|---|---|
回轉(zhuǎn)數(shù) | 1 |
日本maruto臺(tái)式研磨機(jī)Mini Lapotester GP2 型
[概要]
即使是小型臺(tái)式機(jī),也能根據(jù)研究目的在各種條件下進(jìn)行研磨研磨的研磨機(jī)。
切割方式可選擇強(qiáng)制切割方式和恒壓拋光方式,上包、下包均可獨(dú)立驅(qū)動(dòng)。
除了新材料的研磨和拋光外,還可以制備用于微觀結(jié)構(gòu)觀察的樣品,進(jìn)行高精度鏡面拋光,并測(cè)試CMP等廣泛的加工條件。
日本maruto臺(tái)式研磨機(jī)Mini Lapotester GP2 型
規(guī)格
● 下包裹 | |
電動(dòng)馬達(dá) | 三相200V 90W減速電機(jī) |
旋轉(zhuǎn)速度 | 0-140r/min(無(wú)級(jí)變速) |
下壓板直徑 | 200D mm (150D mm 真空吸盤(pán)可作為選項(xiàng)安裝) |
● 上部包裹 | |
電動(dòng)馬達(dá) | 三相200V 400W |
旋轉(zhuǎn)速度 | 0-1,000r/min(無(wú)級(jí)變速) |
下壓板直徑 | 100D mm (100D mm 真空吸盤(pán)可作為選項(xiàng)安裝) |
● 加壓裝置 | |
① 恒壓拋光 | 低摩擦氣缸(加壓范圍:9.8~294N) |
② 強(qiáng)制切割 | 步進(jìn)電機(jī)(小深度設(shè)置:0.01 μm) |
● 上圈擺動(dòng) | |
進(jìn)給電機(jī) | 單相200V 25W |
進(jìn)給率 | 150毫米/分鐘 |
● 冷卻裝置 | 泵循環(huán)式(三相200V 40W) 坦克15?分離 |
機(jī)身尺寸 | W1,350 x L630 x H850 毫米 |
身體質(zhì)量 | 約250公斤 |